激光气体分析仪

MaxSys900系列激光气体分析系统是基于半导体激光吸收光谱（DLAS）技术的过程气体分析系统，能够在各种环境（尤其是高温、高压、强腐蚀等恶劣环境下）进行浓度等参量的在线测量，并具有准确性高、响应速度快、可靠性高、运行费用低等特点，为生产优化、能源回收、安全控制、环保监测和科研分析带来极大的方便，在钢铁冶金、石油化工、环境保护和能源电力等行业已得到了广泛应用。

性能特点

与传统分析系统相比，本系统采用了半导体激光吸收光谱（DLAS）技术，从根本上解决了采样预处理带来诸如晌应滞后、维护频繁、易堵易漏、易损件多和运行费用高等各种问题，并具有如下特点：

•不受背景气体交叉平扰；

•可应用与电捕焦后等恶劣工况；

•维护费用成本低，

•不受粉尘和视窗污染干扰；

•不受被测气体环境参数变化干扰；

•一体化设计，结构紧凑，可靠性高；

•模块化设计，可现场更换所有功能模块；

•智能化程度高，操作、维护方便；

•无需采样预处理系统，系统结构简单；

•响应时间≤1s，保证及时进行工艺控制；

•无样气排放，环保无污染；

•直接对过程气体进行分析，测量准确性高。

测量气体

•O2（氧气）：0～1%Vol.,0～Vol.          

•CO（一氧化碳）：0～8000ppm, 0～Vol.

•CO2（二氧化碳）：0～2000ppm, 0～Vol.

•H2O（水蒸气）：0～10ppm, 0～Vol.

•H2S（硫化氢）：0～20ppm, 0～Vol.

•HF：0～1ppm,0～50%Vol.

•HCL（氯化氢）：0～7ppm,0～50%Vol.

•HCN：0～20ppm,0～1%Vol.

•NH3（氨气）：0～10ppm,0～Vol.

•CH4（甲烷）：0～200ppm, 0～Vol.

•C2H2（乙炔）：0～10ppm, 0～Vol. 

•C2H4（乙烯）：0～10ppm, 0～Vol. 

技术参数

•测量原理：TDLS

•过程气体Zui高温度：1500℃

•过程气体Zui高压力：10barA

•光路长度：0.5~30M

•测量精度：±1%FS（由具体应用决定）

•重复性：±1%FS（由具体应用决定）

工作条件

•环境温度：-30~60℃

•储存温度：-40~80℃

•吹扫气体：0.3~0.8MPa工业氮气或净化仪表气等

技术指标

•防爆等级：ExdⅡCT6Gb

•防护等级：IP66

•安全认证：SIL2

响应时间

•预热时间：≤15min

•响应时间（T90）：≤1s

接口信号

•模拟量输出：2路4~20mA电流(隔离、Zui大负载750Ω)

•继电器输出：3路输出(继电器规格:24V，1A)

电气特性

•电源：24VDC(18-36VDC)

•功率：<10W