MaxSys900系列激光气体分析系统是基于半导体激光吸收光谱（DLAS）技术的过程气体分析系统，能够在各种环境（尤其是高温、高压、强腐蚀等恶劣环境下）进行浓度等参量的在线测量，并具有准确性高、响应速度快、可靠性高、运行费用低等特点，为生产优化、能源回收、安全控制、环保监测和科研分析带来极大的方便，在钢铁冶金、石油化工、环境保护和能源电力等行业已得到了广泛应用。
性能特点
与传统分析系统相比，本系统采用了半导体激光吸收光谱（DLAS）技术，从根本上解决了采样预处理带来诸如晌应滞后、维护频繁、易堵易漏、易损件多和运行费用高等各种问题，并具有如下特点：
•不受背景气体交叉平扰；
•可应用与电捕焦后等恶劣工况；
•维护费用成本低，
•不受粉尘和视窗污染干扰；
•不受被测气体环境参数变化干扰；
•一体化设计，结构紧凑，可靠性高；
•模块化设计，可现场更换所有功能模块；
•智能化程度高，操作、维护方便；
•无需采样预处理系统，系统结构简单；
•响应时间≤1s，保证及时进行工艺控制；
•无样气排放，环保无污染；
•直接对过程气体进行分析，测量准确性高。
测量气体
•O2（氧气）：0～1%Vol.,0～Vol.
•CO（一氧化碳）：0～8000ppm, 0～Vol.
•CO2（二氧化碳）：0～2000ppm, 0～Vol.
•H2O（水蒸气）：0～10ppm, 0～Vol.
•H2S（硫化氢）：0～20ppm, 0～Vol.
•HF：0～1ppm,0～50%Vol.
•HCL（氯化氢）：0～7ppm,0～50%Vol.
•HCN：0～20ppm,0～1%Vol.
•NH3（氨气）：0～10ppm,0～Vol.
•CH4（甲烷）：0～200ppm, 0～Vol.
•C2H2（乙炔）：0～10ppm, 0～Vol.
•C2H4（乙烯）：0～10ppm, 0～Vol.
技术参数
•测量原理：TDLS
•过程气体Zui高温度：1500℃
•过程气体Zui高压力：10barA
•光路长度：0.5~30M
•测量精度：±1%FS（由具体应用决定）
•重复性：±1%FS（由具体应用决定）
工作条件
•环境温度：-30~60℃
•储存温度：-40~80℃
•吹扫气体：0.3~0.8MPa工业氮气或净化仪表气等
技术指标
•防爆等级：ExdⅡCT6Gb
•防护等级：IP66
•安全认证：SIL2
响应时间
•预热时间：≤15min
•响应时间（T90）：≤1s
接口信号
•模拟量输出：2路4~20mA电流(隔离、Zui大负载750Ω)
•继电器输出：3路输出(继电器规格:24V，1A)
电气特性
•电源：24VDC(18-36VDC)
•功率：<10W
