品牌 | 光刻胶 黑白光阻 铜制成工艺 | 型号 | AZ4620 AZ4400 AZ4210 |
类型 | 化合物半导体材料 | 材质 | 硅 |
产品名称 | 安智光刻胶 AZ4330 AZ4620 AZ4400 AZ4210 AZ4903 现货供应 | 牌号 | |
用途 | 安智AZ耐高温光刻胶 负型光刻胶 高膜厚 光刻电镀工艺 | 外观 | 厚膜正胶显影液 安智显影液 AZ400K AZ300MIF 现货 |
电镀工艺光刻材料 正型光刻胶 g线i线通用 分辨率高 稳定性好 | ||||||
圆片级封装(wlp) 耐受性高 az12xp 陡直度好 膜厚光刻胶 | ||||||
图形化衬底(pss) 替代futurrex光刻胶 替代安智az光刻胶 | ||||||
pss工艺 g线i线通用 替代az-gxr601 产出率高 成份稳定 | ||||||
蒸镀光刻 高分辨率光刻胶 az5200 az5214e反转胶lift-off工艺 | ||||||
批量供应 安智光刻胶 az4620 az4400 az4210 az4330az4903 | ||||||
安智az耐高温光刻胶 负型光刻胶 高膜厚 光刻电镀工艺 | ||||||
厚膜正胶显影液 安智显影液 az400k az300mif | ||||||