Unimill 离子减薄仪--用于 TEM/XTEM 样品制备的全自动离子束减薄系统
Technoorg LindaUniMill 离子减薄仪专为快速地制备具备高减薄率的、高质量的 TEM/XTEM 样品而设计。 Unimill既可以使用全球dujia的超高能离子枪进行快速研磨，也可以使用专用的低能离子枪进行Zui终抛光和精修处理。
产品特色：
·可直接使用同一台仪器进行快速减薄和抛光/精细处理
·支持全自动的离子枪参数设置和手动调节离子束研磨参数
·具备Zui广的离子枪能量范围：低能离子枪与超高能离子枪结合，能量范围可达 100 eV ~ 16 keV
·具备极高的切削率
·可选择配备 LN2 液氮制冷
离子枪优势
UniMill包括两支独立控制的离子枪：一支高能或超高能离子枪和一支低能离子枪。
高能和超高能离子枪
Unimill的高能和超高能离子枪提供了Zui高的研磨率。高达 16 keV 的离子枪专为要求极低研磨速率的 TEM 样品制备而设计。
低能离子枪
离子枪的特殊结构可在整个制备过程中形成高束流密度。能量极低的离子束保证了表面损伤和离子束诱导非晶化效应的Zui小化。
离子枪控制
所有离子枪参数，如加速电压和离子束电流在内均由智能反馈回路控制，但始终可以在样品制备过程中进行手动调节。离子枪参数的初始值支持自动设置或手动调节，同时可在电脑上连续监控和显示。
性能参数
离子枪
超高能离子枪（可选）：
• 离子束能量：高达16keV，连续可调
• 离子束电流：高达500 μA
• 离子束直径：1.6 -1.8 mm (FWHM)
高能离子枪（标配）：
• 离子束能量：高达10keV，连续可调
• 离子束电流：高达300 μA
• 离子束直径：0.9 -1.3 mm (FWHM)
低能离子枪：
• 离子束能量：100eV - 2 keV，连续可调
• 离子束电流：7 -80 μA
• 离子束直径：1.5 -2.2 mm (FWHM)
样品台
• 切削角度：0°-40°，每 0.1° 连续可调
•电脑控制的平面内样品旋转和移动：
• 360° 旋转
• 从±10°到±120° 移动，每 10° 连续可调
• 可兼容的 TEM样品厚度范围 (30 - 200 μm)
成像系统
•用于全视觉控制和切削监控/终止的 CMOS 相机图像
• 高分辨率彩色 CMOS相机
• 50 - 400倍放大范围的手动变焦视频镜头
电脑控制
•内置工业级计算机
•简单便捷的图形界面和图像分析模块
•支持用户手动调节离子枪参数，包括气流调节
•用于自动设置机械和切削参数的预编程方案（可以
手动调整）
• 自动样品加载
•自动终止：图像分析模块支持的切削过程的光学终止
（ 通过检测薄区穿孔或监测表面形貌）
供气系统
• 99.999%纯氩气，juedui压力为 1.3 - 1.7 bar
•带有电子出口压力监测功能的惰性气体专用压力调节器
•工作气体流量高精准控制
真空系统
• Pfeiffer真空系统配备无油隔膜和涡轮分子泵，配备紧凑
的全范围 Pirani/Penning真空计
电源要求
• 100 - 120V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz
成像案例